Page 95 - 2018 電子科技產業年鑑

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伴隨著半導體產業的快速發展，從傳統3C 
應用，邁向AIoT發展越來越明顯，預估在2021
年，全球半導體產業持續蓬勃發展下，將可達到 永光化學於20年前進入中國大陸，在既有產品
3兆元的產值。 下，持續開發多項高性能材料、建立驗證產線。
永光蘇州廠將積極尋找在地生產，透過客製化
永光化學總經理陳偉望表示，永光化學電子 代工，提高永光化學的競爭優勢。「永光服務
化學事業，歷經20多年的研發技術，不僅完整 創新、材料開發與技術突破，已成兩岸客戶首
佈局半導體製程G&I-Line光阻產品版圖;推出SiC 選。」林昭文補充道。
專用研磨液，並著墨於晶圓級封測與系統級封裝
所需之化學增幅型光阻劑、顯影液、研磨液、特 面對2.5D與3D晶片堆疊的技術演進，永光
殊油墨等一應俱全，以滿足半導體新世代產品應 化學目前著重於封測產業使用之黃光化學品，
用。 推出ECA 150化學增幅型光阻劑、ENPI 503負
型光阻劑、EPD 56顯影劑，主要針對金凸塊
綜觀半導體產業材料發展現況，在前有持續 （Gold Bump）、銅柱（Cu Piller）與重佈線製
領先的美日韓廠商競爭，後有中國政府大力支持 程（RDL）等製程使用。
的中國半導體材料廠快速逼近下，永光化學今年
最高戰略將不同以往，努力從關鍵材料、製造設 因應5G、大數據與物聯網趨勢來臨，碳化
備、檢驗設備中，尋找市場機會與技術突破，為 矽（SiC）半導體功率元件逐漸受到重視，永光
客戶提供客製化、提高產能及優化市場的需求。 不缺席新產品的開發，推出SiC專用研磨液，為
新半導體時代來臨做好產品就位。
目前永光化學的電化產品，已具備20nm超
潔淨化學品量產能力，同時也是全球6家國際大
廠的光電、半導體製程材料合作廠商。2018年
永光化學持續推出旗下兩大光阻應用：厚膜封裝
光阻EPP 110；關鍵層I-line光阻EPI 630。EPP
110主要可用於電鍍銅，最高可用厚膜=25um，
深寬比5，具備業界競爭力。EPI 630，具高解
析特性＜0.35um，EPI 630主要應用在晶圓製程
的離子植入層，具備高感光、製程寬容度大特
性。此外在晶片後端製程應用，永光亦積極開發
感光型聚醯亞胺薄膜（PSPI），促進增加新產品
品項，提供顧客端不同材料特性之需求選擇。

永光副總經理林昭文指出，即使面對大陸紅
色供應鏈崛起，永光化學在大陸市場永不缺席。

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